粒子測定は、サンプル中の粒子をカウントおよびサイジングするプロセスであり、大気または液体のいずれかで実行されます。 この技術は、高い流体純度が必要であり、粒子状汚染物質の存在が製品の廃棄物やシステムの損傷につながる可能性がある半導体ウェーハ製造などの工業プロセスで顕著に見られます。
課題
半導体ウェーハの製造プロセスでは、粒子測定を使用して、化学薬品、冷却液、および洗浄液にそのような汚染物質がないことを確認します。 このような業界は、汚染に対する粒子測定の力を活用し始めています。 その結果、この分析を実行するために必要な機器のサイズとスペースが問題になり始めています。 OEMおよびシステムインテグレーターは、コストのかかるプラットフォームの再設計を行う必要のない容易な組み込みを求めています。 液体粒子の測定は、生産ラインに統合できる専門の機器によって実行されます。 このような機器には、高出力レーザーが装備されています。 このような機器には、コンパクトで信頼性の高いプラットフォームで高出力と低ノイズの最適なバランスを実現する高出力レーザーが装備されています。
粒子測定はどのように機能しますか？
さまざまなサイズと材料の粒子が存在する可能性があります。 したがって、汚染物質の特性を決定することは、汚染物質の存在および考えられる汚染源を理解する上で重要です。 汚染物質の特性を正確に測定するために、空冷レーザーソリューションが採用されています。 レーザー、およびアレイディテクタまたはCCDカメラのいずれかが回折光を分析し、回折光がそれらの間を通過する粒子の特性を決定します。 必要な出力に応じて、Laser Quantumの532 nm gemまたはopusレーザーがこのアプリケーションに最適です。 レーザビームは、液体の流れに垂直な角度でフローセルを通過します。 ビームは、液体を通ってビームダンプ付きのピンホール開口部に正確に向けられます。 レーザー・ビームに衝突する粒子があると、光はこのビーム・ダンプから回折されます。
ホワイトペーパー全文はこちらでお読みください。