材料除去(アブレーション)

正確な量の材料を除去して、テクスチャに変化を引き起こし、下にある表面または材質を露出させ、汚染物質や過剰な材質を除去します

材料除去(アブレーション)について

正確な量の材料を除去して、テクスチャに変化を引き起こし、下にある表面または材質を露出させ、汚染物質や過剰な材質を除去します この非接触方式は、3D成形部品、またはフォームやコーティングされたガラス繊維などのデリケートな材料に対して、反りや損傷を与与えずに実行できます。 レーザー・アブレーションは、化学薬品やその他の消耗品を使用せずに、必要な材料のみを除去する、正確で再現性のある深さ制御を提供します。 パターンはデジタル制御されており、広範囲のテクスチャリングから繊細な部品の周りのミクロンサイズのエリアまで対応可能です。

 

使用されるレーザー・システムは、材料と用途(具体的には、その規模、品質、スループットのニーズ)によって異なります。 レーザーは、除去する材料の種類と量に応じて、CW、パルス、または超高速の場合があります。 スキャン・ヘッドまたはポリゴンを使用して、必要なスループット速度を実現できます。特に、目的のアブレーション深度を達成するために複数のパスが必要な場合に使用できます。

 
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材料除去(アブレーション)には以下が含まれます。
  • 表面の質感を変える
  • 視覚的なパターンの追加
  • ワイヤーまたはファイバーのストリッピング
  • 基材からのコーティングまたは汚染物質の除去
  • 後続のプロセス(接着剤による接着、塗装、セラミック塗布)のための表面の準備
  • 表面に深く、長持ちするマークを形成する
  • 余分な材料の正確な除去
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ミクロン・レベルの精度、高い再現性、および信頼性の高いソリューション

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高精度、高再現性、より高速なスループット・ソリューション

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